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उत्पादों का विवरण

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सिलिकॉन वेफर सफाई
Created with Pixso.

आईटी उद्योग सिलिकॉन वेफर अच्छे प्रदर्शन के साथ सफाई

आईटी उद्योग सिलिकॉन वेफर अच्छे प्रदर्शन के साथ सफाई

ब्रांड नाम: JUNHE
मॉडल नंबर: 1020
MOQ: 500 किलोग्राम
कीमत: विनिमय योग्य
आपूर्ति की योग्यता: प्रति दिन 2 टन
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन में Changzhou
प्रमाणन:
ISO9001 TS16949 SGS
Name:
Silicon Wafer Cleaning
Application:
IT Industry
PH:
12.0-14.0
Free alkalinity(piont):
≧13.5mg
name:
si wafer cleaning
model:
1020
पैकेजिंग विवरण:
1000kg / बैरल
आपूर्ति की क्षमता:
प्रति दिन 2 टन
प्रमुखता देना:

सिलिकॉन स्लाइस डिटर्जेंट

,

औद्योगिक रासायनिक सफाई

उत्पाद वर्णन
आईटी उद्योग सिलिकॉन वेफर सफाई के साथ अच्छा प्रदर्शन

आरसीए स्वच्छ प्रक्रिया सिलिकॉन वेफर्स से कार्बनिक अवशेषों को हटाने के लिए आरसीए कॉर्पोरेशन में विकसित एक सफाई पद्धति पर आधारित है। सफाई समाधान 5 भागों पानी, 1 भाग 27% अमोनियम हाइड्रॉक्साइड और 1 भाग 30% हाइड्रोजन पेरोक्साइड से बना है। यह कार्बनिक संदूषकों को हटाता है और वफ़र की सतह पर ऑक्सीकृत सिलिकॉन की एक पतली परत छोड़ता है।

सिलिकॉन वेफर सफाई सुविधा

1) सही पीपीआर (प्रदर्शन मूल्य अनुपात) के साथ एकल समूह उत्पाद

2) कैल्शियम, मैग्नीशियम, धातु, तांबा, सीसा और फॉस्फोर से मुक्त रहें और ROHS की आवश्यकता को पूरा करें।

3) उच्च सटीकता वाले आईटी क्षेत्र की आवश्यकता को पूरा करने के लिए अच्छा घटता प्रदर्शन।

सिलिकॉन वेफर सफाई तकनीकी पैरामीटर

वर्गीकरण

परियोजना

JH-1020 सिलिकॉन वेफर सफाई परीक्षण मानक
दिखावट तरल के लिए बेरंग दृश्य
निश्चित वजन 1.01-1.25 densimeter
पीएच 12.0-14.0 PH साधन
मुक्त क्षारीयता (piont) ≧ 13.5mg CYFC

सिलिकॉन वेफर सफाई निर्देश

1) तीन-चौथाई तक सफाई टैंक में शुद्ध पानी डालें, फिर, एजेंट को 3% -5% एकाग्रता में जोड़ें, काम के स्तर तक पानी जोड़ें, आखिरी, काम के तापमान तक स्नान समाधान को गर्म करें।

2) कुछ राशि सिलिकॉन स्लाइस को घटाने के बाद स्नान समाधान को पूरी तरह से बदलने की आवश्यकता है।

3) ऑक्सीकरण से बचने के लिए हवा में उजागर समय को कम करें।

4) काम कर रहे तापमान 50-65 डिग्री, निपटान का समय: 2-5 मिनट।

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